本驻留计划向中国大陆，台湾，香港以及海外中国艺术家开放。 截止日期：2013年5月10日，申请文件必须使用英文，申请人须有英文交流能力。在伦敦当代艺术画廊 Corroll / Fletcher 画廊的支持下，TASML 宣布新一轮中国艺术家国际驻留奖的设立。本奖项旨在为新兴中国媒体艺术家提供独特的机会，进入若干国际上极具创新力的媒体艺术及设计实验室， 从事在艺术及科技交叉学科间的前沿性研究和创作。自2013年3月至2015年2月， 每年将通过项目公开选拔向2位中国艺术家颁发该奖。本奖项还与“夏季驻留：国际(媒体艺术)人才网”合作，将使得奖艺术家有机会量体裁衣，从全球合作实验室自选对口实验室进入驻留。得奖人将获得奖金用以制作，旅费，住宿及生活开支。详情可登陆官方网站。